JSR Micro et le CEA-Leti ont annoncé un partenariat à venir afin de développer les matériaux et procédés de lithographie nouvelle génération sub-20 nm.

Le programme aura pour objet de pousser la lithographie optique 193 nm, pour des applications logiques, sous le nœud 20 nm par la technique de double insolation (DP) et d’adresser la lithographie à écriture directe par multi faisceaux d’électrons (ML2).

Le développement spécifique sur le ML2 entrera dans le cadre d’IMAGINE, un programme du CEA-Leti, auquel participent, entre autres les fabricants de semi-conducteurs TSMC et STMicroelectronics. IMAGINE a pour objet de développer une infrastructure de lithographie sans masque à haut débit autour de l’outil développé par la société MAPPER.

Permettre le développement de technologies sub-20 nm est l’une des ambitions de JSR avec une attention particulière accordée à la lithographie de nouvelle génération.

« JSR a une bonne compréhension des besoins de ses clients en termes d’innovations sur les matériaux, de performances des produits, de suivi de qualité, d’exigences sur les coûts et la fabrication. » a déclaré Bruno Roland, Président de JSR Micro. « La collaboration avec le CEA-Leti est une grande opportunité qui va nous permettre de participer à un programme vaste et ambitieux ainsi qu’aux défis de nouveaux développements en lithographie avec des cibles réalistiques par rapport au marché. Tout en repoussant les limites de la lithographie optique, cette collaboration nous donne la possibilité unique de contribuer au développement du ML2. »

« Le développement des matériaux et procédés est l’un des principaux défis que doit relever la lithographie sub-20 nm. » a déclaré Serge Tedesco, directeur du programme CEA-Leti. « Pousser les limites de la lithographie optique standard en combinaison avec de nouvelles techniques, telle que la lithographie sans masque semble, être une véritable alternative et nous sommes heureux de recevoir le soutien de JSR dans l’exploration de ces nouveaux domaines. »

A propos de JSR
JSR Micro N.V., basé à Leuven (Belgique), est une filiale de JSR Corporation, une entreprise multinationale qui emploie plus de 5 000 personnes à travers le monde et occupe une place dominante pour la fourniture des matériaux sur de nombreux marchés des nouvelles technologies. Le quartier général de JSR est basé à Tokyo (Japon) et son réseau mondial possède des usines et des bureaux en Europe, aux Etats-Unis, en Chine, à Taïwan, en Corée et à Singapour. JSR est une organisation orientée vers la recherche qui poursuit des collaborations étroites avec les principaux innovateurs dans un grand nombre de secteurs clés pour le bien-être de la société du futur : sciences de la vie, stockage de l’énergie, matériels électroniques, matériels d’affichage et optiques. L’innovation traitée de façon individuelle résume la proposition de valeur que nous faisons à nos clients. JSR propose à ses clients une collaboration très étroite dès le départ pour leur offrir un avantage concurrentiel basé sur les technologies de pointe, un niveau de qualité élevé et constant et à un coût équilibré.

Contacts :

JSR :
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+32 16 832 832
bruno.roland@jsrmicro.be

CEA-Leti :

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+33 4 38 78 49 89
serge.tedesco@cea.fr

Thierry Bosc
+33 4 38 78 31 95
thierry.bosc@cea.fr

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