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Micro et nano-électronique


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• MICRO et NANO-ELECTRONIQUE

Bases / Composants / Circuits


Hervé Fanet


Editions Dunod, 2006




• Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium


Sous la direction d'Annie Baudrant


Editions Hermes Sciences, 2011
364 pages




• MICRO et NANO-ELECTRONIQUE


Cet ouvrage présente de façon exhaustive l’art de la miniaturisation en électronique intégrée, en étudiant l’ensemble des aspects physiques, technologiques et architecturaux de la micro-électronique et de la nano-électronique.

Les bases de ces disciplines ainsi que les progrès les plus récents sont exposés :

  • principes de fonctionnement des composants électroniques (physique des semi-conducteurs, électromagnétisme, mécanique quantique) ;
  • transistor MOS (le plus utilisé) et transistor bipolaire ;
  • procédés de fabrication de l’industrie micro-électronique ;
  • fonctions analogiques et numériques de base ;
  • circuits intégrés complexes, processeurs et mémoires ;
  • composants nanométriques et architectures associées (nanofils, nanotubes…) ;
  • perspectives d’utilisation, circuits électroniques de demain.


Public : Ce livre s’adresse principalement aux ingénieurs et chercheurs en électronique, ainsi qu’aux enseignants et étudiants du domaine.

Pour commander, consulter le site des éditions Dunod





• Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium


Cet ouvrage sur l'implantation ionique et les traitements thermiques en technologie de silicium propose au lecteur une vision de l'élaboration des couches actives, modifiant la structure de surface du substrat silicium massif : principes de base, mise en applications en fonction des filières technologiques, limites et contraintes, avec un focus sur les dernières avancées.
Son objectif n'est pas de faire le tour de la question pour tous les procédés élémentaires d'un assemblage technologique, mais de rappeler les données essentielles et fondamentales seulement pour les procédés qui visent à utiliser et à améliorer les propriétés du matériau ou du semi-conducteur silicium, tant pour les composants électroniques que pour les microsystèmes.
Sont ainsi développés l'oxydation silicium, l'implantation ionique, la diffusion et l'épitaxie d'hétérostructures.


Public : L’ouvrage s’adresse aux étudiants, aux élèves ingénieurs de licence technologique et master, aux professionnels des métiers de la microélectronique et des microsystèmes de tous niveaux


Pour commander, consulter le site des éditions Hermes Sciences


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